機械拋光液制備設備

簡要描述：NP-CMP化學機械拋光液制備設備主要用于CMP（化學機械拋光液）（包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學機械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類化學機械拋光液）的分散和各種微納米材料、新能源材料、無機阻燃劑等的破碎、分散、分級、改性等。

產品型號：NP-CMP
廠商性質：生產廠家
更新時間：2024-06-20
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NP-CMP化學機械拋光液制備設備主要用于CMP（化學機械拋光液）（包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學機械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類化學機械拋光液）的分散和各種微納米材料、新能源材料、無機阻燃劑等的破碎、分散、分級、改性等。

NP-CMP化學機械拋光液制備設備經過測試的工藝路線，已經實現量產The tested process route has achieved mass production ；

智能控制，實時監測，完整數據存儲，直觀顯示圖、表Intelligent control, real-time monitoring, complete data storage, intuitive display of charts and tables；

轉速可調，溫度可控，超聲波強度可調，可定時Rotating speed adjustable， Temperature controlled， Ultrasonic intensity adjustable， Timed ；

操作方便簡潔，清洗容易 Easy and simple operation，easy to clean。

NP-CMP化學機械拋光液制備設備 參數：

Items	實驗型Experiment Type	生產型Production Type
溫度Temperature（℃）	-30℃~80℃	-20℃~80℃
分散方式Dispersion Type	連續式continuous	連續式continuous
材質Material quality	玻璃、不銹鋼、鈦 glass or stainless steel	不銹鋼、鈦stainless steel
規格Specification	依容積depend on volume	定制customized
流量Flow rate	50~1000ml/min	可定制customized
介質粘度media viscosity	≤104cP	≤104cP
攪拌轉速agitation speed	500~3000rpm依實際需求選擇	500~3000rpm依實際需求選擇
剪切轉速agitation speed	1400~20000rpm依實際需求選擇	1400~12000rpm依實際需求選擇
電源Power	220V/50Hz	220V/50Hz 、380V/50Hz
超聲功率Ultrasonic power	200~3000W	定制customized
超聲頻率Ultrasonic Frequency	20KHz、28KHz、40KHz、68KHz	20KHz、28KHz、40KHz、68KHz
顯示方式Display model	數顯、液晶觸摸屏digital display,LCD touch screen 依據需要可選擇	液晶觸摸屏LCD touch screen
	溫度、功率可調Temperature、power adjustment NP(納威科技)是一家研發、制備、定制微納米、新能源等材料的反應、分散、整條產線等設備及清洗設備的高科技公司。公司產品開發遵循“智能化、模塊化、連續化、小型化"的設計原則，堅持“設計制造最合適的設備來滿足用戶的工藝條件"、和“真心為客戶提供最佳的解決方案和服務"的理念，開發出來的系列微納米材料合成、反應設備、微納米材料高效分散設備廣泛適用于納米Ni、Ag、Cu、FePO4、MnO2、ZrO2、TiO2、Mg(OH)2、SiO2、磷酸鐵、磷酸鐵鋰、三元等多種微納米材料的從實驗室研究、小試、中試放大、直到工業化規模生產應用。包括有：1、標準的實驗室使用的反應設備、分散設備、攪拌設備、研磨設備、清洗設備等；2、定制各種實驗室設備；3、定制實驗室成套設備；4、定制中試設備；5、量產設備等。

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